ユーザーガイド
HOME > ユーザーガイド > ビームライン概要 > BL6N1 軟X線XAFS・光電子分光 Ⅰ

BL6N1 軟X線XAFS・光電子分光 Ⅰ

ビームライン概要

 軟X線領域のX線吸収微細構造分光(XAFS)測定を行い、材料中の原子の結合状態や局所構造を解析する。分光結晶は、Ge(111), Si(111),InSb(111)が利用可能。エネルギー範囲は、K吸収端でSi~Cr、L吸収端でRb~Xeを対象にXAFS測定が可能。また、大気圧条件XAFS測定システムを利用することで、製造現場や材料の実使用時に近い環境での測定ができる。
本ビームラインでは、X線光電子分光測定も可能で、5keVまでのシンクロトロン光を用いた測定に対応する。電子衝撃加熱による試料加熱可能な試料マニピュレータと、静電半球型光電子分光アナライザ(SPECS PHOIBOS 150)を装備する表面XAFSチャンバと、ロードロック及び試料輸送機構を備え、イオンスパッタ装置、LEED分析器を装備する試料準備チャンバを有する。

光エネルギー 1.75~6 keV (0.7~0.2 nm) ※分光結晶による。
ビームサイズ 2.0(width)×1.0(hight)  mm  ※スリットサイズによる。
分解能(E/ΔE) > 2000 @3keV
光子数 ~3.0×1010 Photons/sec @3keV


(注意)
 真空中で測定する場合 ⇒ 全電子収量法しか測定できません。
 大気圧条件XAFSシステムで測定する場合 ⇒ 転換電子収量法と部分蛍光収量法が同時測定できます。 
 
(ただし、トランスファベッセルを用いる場合は部分蛍光収量法のみの対応となります。)

 測定事例

  • XAFS測定  :全電子収量法 または、SDDによる蛍光収量法 が可能。(真空および大気圧)


      :分光結晶によるXAFS分解能の変化

 

  • XPS測定:入射光エネルギー可変の測定が可能。 入射光エネルギーや出射角を変えることで、深さ分解測定が可能。

 

現在の整備状況


 










 
 
  • サンプルプレート図面 こちら 

 
  • トランスファーベッセル:整備完了(BL7U、BL1N2との互換あり) 

  真空チャンバとHeパスチャンバで使用可能

 ・マニュアル トランスファベッセルの使用方法は こちら

 

  • 大気圧(Heパス)XAFS用サンプルホルダー 2機で運用中 
  サンプルサイズ:8mm×20mm 以下

 



(更新2015.9.30)


一覧へ戻る